半导体晶圆与薄膜激光直写蚀刻系统

LASER ETCHING & SELECTIVE ABLATION

激光蚀刻工艺从表层图形到功能微结构

围绕材料层系、蚀刻深度、选择比、线宽、热影响、残留与量产节拍,匹配MOPA光纤、UV、超快、3D动态聚焦、卷对卷和机器人激光平台。

6类激光蚀刻路线
12+类材料与层系
10款设备与自动化平台

SELECTIVITY BEFORE POWER

先定义要去除哪一层、保留哪一层,再选择波长与脉宽

激光蚀刻不是单纯“在表面留下图案”,而是在受控能量密度下对目标层进行熔融、汽化、烧蚀或光化学去除。薄膜与基底的吸收差异、损伤阈值、厚度、附着力、热扩散和副产物决定工艺窗口。Aogeo Laser 先用真实样品验证选择比、残留和基底保护,再确定设备。

  • MOPA、UV、皮秒与飞秒激光蚀刻工艺验证
  • 金属纹理、薄膜开窗、线路修整、极片图形与曲面处理
  • 视觉对位、精密运动、卷对卷、机器人、除尘与在线检测
超快激光微蚀刻与表面功能化
超快激光、显微视觉与精密平台构成的低热影响微蚀刻平台

ETCHING ROUTES

六类激光蚀刻与选择性去除路线

金属表面、晶圆薄膜、PCB线路、电池极片、脆性材料和三维构件的能量耦合机制不同,应按层系、尺寸和损伤边界分别确定平台。

01 / MOPA FIBER

金属表面蚀刻与深浅纹理

MOPA光纤激光调节脉宽与频率,在钢、铝、铜、钛等金属上形成凹刻、细纹和功能表面。

铭牌 · 模具 · 工具 · 金属零件
02 / UV COLD ABLATION

UV低热影响精密蚀刻

355nm短波长与小光斑用于玻璃、陶瓷、聚合物、电子材料和薄涂层的精细去除。

电子 · 医疗 · 光学 · 精密塑料
03 / ULTRAFAST

超快微蚀刻与功能化

皮秒或飞秒脉冲降低热扩散,形成微槽、微孔、减摩、润湿与附着功能结构。

微结构 · 传感器 · 植入器械
04 / WAFER & THIN FILM

晶圆与薄膜直写蚀刻

对金属膜、钝化层、氧化层和功能涂层选择性开窗、图形直写与局部修整。

晶圆 · 封装基板 · 陶瓷基板
05 / PCB & FPC

线路蚀刻与修整

视觉对位后去除铜层、覆盖膜、阻焊层或胶层,实现精细线路、焊盘开窗和返修。

PCB · FPC · 软硬结合板
06 / BATTERY & 3D

极片图形与三维构件蚀刻

卷对卷、动态聚焦或机器人平台覆盖铜铝箔、涂覆极片、曲面和大型异形零件。

新能源 · 汽车 · 航空航天

SELECTION LOGIC

按层系、选择比、线宽与损伤阈值匹配设备

以下用于项目初选。最终配置以材料DOE、截面、残留、粗糙度、基底损伤、连续运行、除尘和节拍验证为准。

工艺平台典型目标关键关注项常见配置
MOPA光纤金属凹刻、表面纹理、颜色与局部去层深度、氧化、重铸、锥度与效率振镜 / 旋转轴 / 3D动态聚焦
UV纳秒聚合物、玻璃、陶瓷和电子薄层去除线宽、碳化、熔边、残留与粉尘视觉 / 精密平台 / 自动对焦
皮秒/飞秒微结构、功能表面和高选择比薄膜蚀刻热影响、微裂纹、粗糙度与效率显微视觉 / 高精度平台 / 在线测量
晶圆直写钝化层、氧化层、金属膜和电极图形选择比、基底损伤、颗粒和对位晶圆台 / 对准 / 翘曲补偿
PCB/FPC平台覆盖膜开窗、露铜、线路修整和返修残铜、介质损伤、板翘和拼接Mark视觉 / 真空吸附 / 分区除尘
卷对卷/机器人极片、箔材、曲面与大型异形件张力、纠偏、轨迹、焦点和节拍卷对卷 / 机器人 / MES接口
核心原则

蚀刻选型不能只看瓦数。目标层与基底的吸收和损伤阈值、允许残留、颗粒、热影响和节拍必须先量化。

提交材料层系 →
PCB FPC精密激光蚀刻质量控制

ETCHING QUALITY ENGINEERING

把选择性去除建立在可测量的层级指标上

量产方案不仅要形成图形,还要持续满足蚀刻深度、线宽、选择比、边缘、热影响、残留和颗粒要求。系统可组合自动对焦、视觉对位、在线测量、烟尘净化与生产数据管理。

01

几何与深度

线宽、间距、深度、锥度、轮廓与重复定位。

02

基底保护

选择比、热影响、微裂纹、重铸与介质损伤。

03

表面洁净

残留、残铜、碳化、颗粒、粉尘与再沉积。

04

量产稳定

焦点、张力、拼接、镜片、连续运行、节拍与良率。

ETCHING EQUIPMENT

激光蚀刻设备与自动化平台

以下全部链接到产品中心中的具体产品详情页。4款专用设备为本次新建,另有6款成熟平台按材料与自动化需求复用。

01专用激光蚀刻设备

02通用与自动化蚀刻平台

ETCHING PRODUCT CENTER

查看全部激光蚀刻设备

新集合已收录4款专用设备,以及MOPA、UV、CO₂、3D动态聚焦、机器人和超快微加工平台。

进入产品集合

RELATED PROCESSES

蚀刻、打标、雕刻、清洗与微加工的工艺边界

这些工艺可能使用相近激光器,但材料去除层级、目标深度、表面结果和验收方法不同,应按任务定义页面与设备。

ETCHING

激光蚀刻

对目标表层或薄膜进行可控去除、开窗、图形化和功能微结构加工。

当前页面
MARKING

激光打标

以永久身份、对比度、码级和可追溯性为核心,材料去除通常较小。

查看打标工艺 →
ENGRAVING

激光雕刻

通过更多材料去除形成可测深度、浮雕、纹理或内部结构。

查看雕刻工艺 →
MICROMACHINING

激光微加工

面向微孔、微槽、微结构和精细轮廓,强调微米级尺寸与低热影响。

查看微加工工艺 →
CLEANING

激光清洗

选择性去除污染、氧化层或大面积涂层,以恢复或活化基材表面。

查看清洗工艺 →
CUTTING

激光切割

以贯穿材料、获得连续轮廓和边缘质量为主要目标。

查看切割工艺 →

PROJECT DELIVERY

从层系分析到量产的五步交付

每一步都有明确输入、验证方法和交付结果,避免仅凭功率与速度承诺最终蚀刻效果。

  1. 01

    需求定义

    基材、目标层、厚度、图形、尺寸、质量标准与节拍。

  2. 02

    材料DOE

    比较波长、脉宽、能量密度、速度、焦点和扫描策略。

  3. 03

    质量验证

    深度、线宽、选择比、残留、热影响、颗粒和连续稳定性。

  4. 04

    系统设计

    激光器、光学、运动、治具、除尘、防护和软件联机。

  5. 05

    验收交付

    FAT、培训、配方、维护、耗材、追溯和后续产能升级。

FAQ

激光蚀刻项目常见问题

激光蚀刻、打标和雕刻有什么区别?

蚀刻强调目标表层或薄膜的选择性去除、开窗和图形化;打标主要关注对比度、字符和追溯;雕刻通常去除更多材料并形成可测深度或浮雕。实际边界应按层级、深度和验收标准定义。

为什么同一种材料需要不同激光波长?

材料和膜层对不同波长的吸收率、热扩散与损伤阈值不同。UV和超快激光常用于低热影响与高选择比,MOPA光纤更适合多数金属表面。最终需以真实层系样品验证。

如何避免基底损伤和蚀刻残留?

需要控制单脉冲能量、脉宽、重叠率、扫描顺序和焦点,并结合分层加工、同轴气体和高效除尘。量产前应通过截面、显微和功能测试验证残留与基底性能。

PCB/FPC和晶圆能否直接导入图形加工?

支持Gerber、DXF、位图或客户约定的图形文件,并可通过Mark点、晶圆特征或视觉基准进行自动对位、畸变修正和拼接。具体格式与精度以控制软件方案为准。

能否集成卷对卷、机器人、自动上下料和MES?

支持。可集成卷对卷张力纠偏、机器人、多工位转台、视觉、自动对焦、除尘、在线检测、配方权限、PLC以及MES或数据库接口。

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提交材料层系与目标图形,获取蚀刻工艺和设备建议

请提供基材、膜层材料与厚度、工件或卷材尺寸、图形文件、目标深度、允许残留、基底损伤要求、产能节拍和自动化接口,我们将规划激光器、光学、运动、治具、除尘与检测方案。

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